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    PVD真空鍍膜設備的幾種鍍膜方法

    發布日期:2022-03-31 作者: 點擊:

    1、檢查真空鍍膜設備的操作控制開關是否處于“關閉”位置。 2、打開主電源開關,給真空鍍膜設備上電。 3.拉出低壓閥。打開充液閥。當聽不到氣流聲時,啟動鐘罩閥,鐘罩升起。 4.安裝固定鎢絲螺旋加熱器。將PVDF薄膜和鋁蓋板固定在旋轉盤上。將鋁線穿入螺旋加熱器。 清潔鐘罩內的所有零件,確保沒有雜質和污垢。 5.放下鐘罩。 6、啟動真空鍍膜設備的真空機械泵。 7、打開復合真空計電源(復合真空計型號:fzh-1a)。 8、當低真空表“2”中的指針再次順時針移動到6.7pa時,低壓閥被推入。 9、開啟真空鍍膜設備冷卻水,啟動擴散泵,加熱40min。 10.拉出低壓閥。對立式單門涂布機重復⑦動作程序一次:將左下旋鈕“1”旋至指向第2段的測量位置。 低真空計“2”中的指針順時針移動。當指針移動到6.7pa時,打開高壓閥。 PVD鍍膜分為真空濺射鍍膜、真空離子鍍膜和真空蒸發鍍膜三大類。 

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    PVD鍍膜所用設備:通常稱為PVD真空鍍膜設備或PVD真空鍍膜機 PVD鍍膜原理:在真空環境下,采用低壓大電流的電弧放電技術,采用蒸發源加熱或加熱 輝光放電和離子轟擊用于將鍍層材料沉積在待鍍產品的表面。 PVD鍍膜:可鍍各種單金屬膜(金、銀、鋁、鋅、鈦等)和氧化膜 (TiO等)、碳化物薄膜(TIC、TiCN等)、氮化物薄膜(錫、CrN、TiAIN等),薄膜顏色可以單一 也可以鍍七種顏色。薄膜厚度為微米,真空鍍膜厚度較薄。涂膜幾乎不影響產品尺寸 。 真空濺射鍍膜: 輝光放電是濺射技術的基礎。濺射一般在輝光放電過程中產生。濺射使用粒子或具有高動能的粒子 離子束轟擊固體表面,使靠近固體表面的原子獲得入射粒子攜帶的部分能量,離開固體進入真實狀態 空產品。 影響濺射效果的因素:1靶材;2.轟擊離子的質量;3、轟擊離子的能量;4.被轟擊原子的入射角。

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