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[公司新聞] 真空鍍膜設備的發展
真空鍍膜設備的發展非常迅速。隨著生產率的提高，生產成本大大降低，為PVD真空鍍膜產品的普遍使用鋪平了道路。以輥式真空鍍膜機為例，在顯影開始時可鍍的膜基材的寬度為150mm，已達到2,253mm?；木淼淖畲缶磔S直徑為1000mm，最大卷繞發布時間：2022-07-26 點擊次數：190
