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    PVD真空鍍膜技術發展動向

    發布日期:2020-05-30 作者:正德 點擊:

    (一)薄膜的多元化及服務的客制化

    PVD真空鍍膜

    進入21世紀的PVD技術與1990年代相比,已發生了極大變化,從單一的TiN、TiCN、TiAlN發展到現在的數十種鍍膜型態,針對不同的切削加工應用條件,可對薄膜成分、結構進行選擇,透過適當的制備技術,以獲取令人滿意的切削效果。例如在齒輪加工中,除了對 zz覆膜刀具的使用壽命有嚴格要求外,如何保證齒輪的精度及表面質量同樣至關重要,因此目前普遍采用的是復合膜層,即硬涂層+軟涂層,當然對于不同的鍍膜廠家而言,達成此目的的制程方法不盡相同;而在高速銑削加工中,往往只采用硬質涂層。此外客制化服務的概念初步形成,例如Platit公司的鍍膜設備采用了開放式工作模式,可針對不同的客戶隨時開發更適合的PVD真空鍍膜技術。


    (二)高速及干式切削之鍍膜技術的開發


    在高速加工或干式切削過程中,溫度成為影響刀具使用壽命的主要原因,因此提高薄膜的高溫性能、保證覆膜刀具的紅硬性成為近幾年PVD技術的開發重點。欲改進氮鋁鈦膜層,提高薄膜中Al的含量是有效方法之一,因此出現了所謂的AlTiN鍍層(Al含量大于50%),應該說隨著Al含量的增加(在一定范圍內),薄膜的整體效能有所提升,但仍有一些關鍵技術有待解決:比如說,如何在生產過程中完成這種鍍膜,尤其當Al含量超過65%時,在這種膜層中如何控制AlN的晶體結構等。從新的發展來看,各鍍膜業者已透過其他的薄膜技術解決了高速、高溫切削加工問題,如Balzers的AlCrN鍍膜、Platit的(nc-Ti1-xAlxN)/(αSi3N4) 鍍膜、CemeCon的TINALOX鍍膜、Metaplas的AlTiN-saturn鍍膜都具有優異的高溫性能,并已成功應用于高速、干式切削加工領域。


    (三)膜層組織結構之改善


    目前在PVD市場中,陰極電弧離子鍍技術仍占主導地位,但與先前不同,無論哪一個采用陰極電弧離子鍍技術的公司,都試圖透過硬件的開發及制程的調整來改善膜層的組織結構,避免“液滴”和柱狀晶的產生。尤其是隨著奈米概念的出現,致使陰極電弧薄膜涂層組織獲得根本的改善,采用該技術得到的膜層表面粗糙度Ra值已小于0.15μm,因此使得陰極電弧涂層的整體效能得以提高,并為市場所接受。


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