真空鍍膜設(shè)備主要指一類需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜，具體包括很多種類，包括PVD真空鍍膜，磁控濺射，3D打印高球形粉末 ，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。需要鍍膜的被成為基片，鍍的材料被成為靶材。基片與靶材同在真空腔中。

     蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被蒸發(fā)出來，并且沉降在基片表面，通過成膜過程（散點(diǎn)－島狀結(jié)構(gòu)-迷走結(jié)構(gòu)-層狀生長(zhǎng)）形成薄膜。對(duì)于濺射類鍍膜，可以簡(jiǎn)單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被濺射出來，并且終沉積在基片表面，經(jīng)歷成膜過蒸發(fā)鍍膜設(shè)備+所鍍產(chǎn)品圖蒸發(fā)鍍膜設(shè)備+所鍍產(chǎn)品圖程，終形成薄膜。

     PVD（物理氣相沉積技術(shù)）的基本原理可分為三個(gè)工藝步驟：

（1）鍍料的氣化：即鍍料的蒸發(fā)、升華或被濺射從而形成氣化源。

（2）鍍料粒子（（原子、分子或離子）的遷移：由氣化源供出原子、分子或離子經(jīng)過碰撞，產(chǎn)生多種反應(yīng)。

（3）鍍料粒子在基片表面的沉積。

     超硬面熱噴涂在光學(xué)薄膜領(lǐng)域中的應(yīng)用：增透膜、高反膜、截止濾光片、防偽膜等。可選用光學(xué)鍍膜設(shè)備。在建筑玻璃方面的應(yīng)用：陽(yáng)光控制膜、低輻射玻璃、防霧防露和自清潔玻璃等。可選用低輻射玻璃鍍膜生產(chǎn)線。

     在太陽(yáng)能利用領(lǐng)域的應(yīng)用：太陽(yáng)能集熱管、太陽(yáng)能電池等。可選用磁控濺射鍍Al膜生產(chǎn)線。在集成電路制造中的應(yīng)用：薄膜電阻器、薄膜電容器、薄膜溫度傳感器等。可選用PECVD磁控生產(chǎn)線。

    在信息顯示領(lǐng)域的應(yīng)用：液晶屏、等離子屏等。選用AZO透明導(dǎo)電膜磁控濺射鍍膜生產(chǎn)線。在常規(guī)工業(yè)產(chǎn)品真空鍍膜時(shí)，由于鍍上的金屬膜層受產(chǎn)品表面灰塵、污垢等物質(zhì)的影響，會(huì)導(dǎo)致有污染物、滑痕、凹陷的地方?jīng)]有鍍上薄膜從而保持產(chǎn)品表面本來的顏色。

     真空鍍膜手印顯現(xiàn)原理就是利用手印物質(zhì)引起承痕客體表面清潔度發(fā)生變化，導(dǎo)致親和力出現(xiàn)差別，客體表面潛在手印中的汗液、油脂等物質(zhì)都能不同程度地抑制介質(zhì)沉積，使得有紋線的部位和無(wú)紋線的部位沉積成膜狀況不同，即在客體無(wú)紋線(小犁溝)表面均勻成膜，有紋線(乳突紋線)的部位成膜較薄或基本不沉積成膜，從而形成反差，從而達(dá)到手印顯現(xiàn)的目的。